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淺談凈化工程的發展趨勢是怎樣的?

發布時間:2021-01-28   閱讀:873次
 總體而言,凈化工程行業的變化趨勢主要體現在三個方向:競爭方向的變化,節能技術的發展和高端潔凈技術的探索。今天潤德凈化給你說說凈化工程的發展趨勢是怎樣的。
 
凈化工程
 
(1)競爭方向轉變。從價格競爭變為價值競爭。隨著電子產品的集成,致密化,小型化和功能化,凈化工程中,對元器件的可靠性要求越來越高,電子信息制造業對潔凈室的要求標準也更加嚴格。
 
少量的污垢或弱靜電可能會導致組件產品的產量大幅下降,凈化工程中,這直接影響公司的收益。目前硬盤磁頭的靜電壓閾值已經下降到3 V以內,部分IC的封裝環境要求達到Class10,甚至Class1的水平。
 
(2)節能已成為凈化工程的重要目標。凈化工程是我國的主要能源消耗者之一。據不完全統計,潔凈室的能耗是普通辦公樓的10-30倍。我國的8英寸芯片廠,潔凈室單位面積能耗比美國同型工廠高15%。美國耗能1.28 kW/m2~1.63 kW/m2,而中國耗能1.48 kW/m2~1.93 kW/m2。全年耗電量51%是用于潔凈室運行及相關的維護,如果將51%的能耗合理降低,對企業來說就意味著利潤的增長。
 
因此,潔凈室下游行業的公司越來越關注潔凈室的節能問題。這需要凈化工程行業的設計和建筑公司,從客戶需求出發,從設計理念、建造施工、設備配備及運行等各個方面進行節能設計,只有采取全方位的節能技術,整個潔凈室行業才能持續、良性發展。
 
(3)控制空氣分子污染和其他高端清潔技術。凈化工程中,空氣分子污染是IC工廠關注的問題,它是20年前日本人首次提出的。近年來,世界IC技術發展迅速,IC芯片日益微型化。
 
與顆粒污染相比,AMC對當前IC生產的潛在污染更大。顆粒污染控制僅需要確定顆粒大小和數量,但凈化工程中,對AMC控制而言,除了受芯片線寬的縮小而變化外,并受工藝、工藝設備、工藝材料及傳送系統等的影響。更有甚者用于某一工序的各種工藝材料(化學品、特種氣體等)在很多情況下其微量的分子殘余對下一工序往往可能就是污染物。
 
因此,凈化車間中,AMC已成為一個重要問題,嚴重影響了某些生產工藝的成品率以及IC生產過程中各工藝之間的材料轉移和存儲環境,AMC分子控制技術成為潔凈室設計與施工建設的主流趨勢。
 

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